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发表于 2026-7-26 10:16:03
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(三)与华为深度合作落地现状
1. 需求侧锁定:华为签订5年长期包销协议,消化工厂40%以上产能,昇维旭按昇腾AI、手机、服务器定制化调整DRAM时序、功耗、带宽参数;
2. 技术协同:华为2012实验室、海思派驻内存控制器、系统架构工程师驻场,联合优化DRAM与昇腾AI芯片匹配度;
3. 封装协同:华为提供自研HiBL HBM堆叠封装技术方案,为昇维旭二期HBM产线做工艺预研;
4. 供应链协同:双方联合导入国产光刻胶、靶材、CMP耗材,同步降低存储材料对外依赖。
(四)产业链配套与专利进展
1. 专利:截至2026年7月累计公开/授权超200项发明专利,覆盖DRAM单元结构、薄膜沉积、刻蚀、良率修复、测试算法;
2. 设备国产化:沉积、刻蚀、离子注入80%国产设备导入,光刻完全采用纯国产28nm DUV光刻机;
3. 材料:联合深圳本地材料企业开发DRAM专用高纯靶材、湿化学品,逐步替代日韩进口耗材。
阶段1:短期成熟制程夯实产能(2026–2028,一期工厂主线)
1. 工艺目标
- 2026–2027:持续优化28nm DRAM良率,稳定满产14万片/月,良率提升至92%+;
- 2028:迭代改良型28nm+工艺,优化存储单元尺寸,同等晶圆容量提升20%,降低单位比特成本。
2. 产品迭代
1. 完善DDR5全系容量(16Gb/32Gb),支持5600MT/s高频服务器内存;
2. 量产LPDDR5X低功耗移动内存,匹配手机端端侧AI大模型低功耗需求;
3. 推出工业级宽温DDR5、车载AEC-Q100认证DRAM,打开汽车存储市场;
4. 完成HBM2E实验室样品流片验证,打通基础堆叠工艺。
3. 配套产线建设
- 同步建设晶圆测试、颗粒封装产线,实现晶圆→内存模组一体化交付;
- 搭建国产DRAM材料验证平台,实现85%存储材料本土化替代。
阶段2:中期先进制程+HBM高端存储突破(2029–2032,二期新建12英寸产线)
1. 先进制程迭代路线
- 2029启动二期12英寸工厂建设,规划月产能10万片;
- 工艺节点向下迭代至14nm DRAM,采用环绕栅极晶体管(GAA)存储单元,大幅提升单元密度、降低漏电;
- 技术路径:DUV多重图形化持续迭代,同步配合国内EUV研发进度,2032年后视国产EUV成熟度导入。
2. 核心战略目标:量产国产HBM高带宽内存(AI算力核心)
1. 2029年:建成HBM专用3D堆叠产线,实现HBM3、HBM3E小规模量产;
2. 2030–2032:迭代HBM4,支持12层堆叠、单颗36GB容量,带宽突破2TB/s,直接配套华为昇腾960/970系列AI大算力芯片;
3. 自研混合键合(Hybrid Bonding)超薄晶圆堆叠工艺,摆脱海外堆叠设备依赖。
3. 新型存储预研落地
推进IGZO无电容DRAM研发(长周期技术储备),解决传统6T DRAM电容漏电、尺寸瓶颈,2032年前完成工程样品验证。
4. 市场定位
- 成熟28nm产线:消费电子、工控、车载通用DRAM主力供给;
- 14nm二期产线:AI服务器HBM、高端数据中心DDR6、旗舰手机LPDDR6高端存储。
阶段3:长期前沿存储技术布局(2033年以后,远期规划)
1. 先进制程终极路线
跟进国产EUV光刻机产业化,导入7nm及以下DRAM先进制程,对标三星、SK海力士同期主流工艺;
2. 新一代存储产业化
若IGZO无电容DRAM工艺验证成熟,新建专属产线替代传统电容式DRAM,实现更低功耗、更高密度;
3. 全栈AI存储生态
开发CXL高速互联内存、近存计算存储(Processing-in-Memory),适配下一代超大规模AI集群;
4. 全球化供货
形成成熟28nm+先进14nm两条DRAM产能矩阵,国内双供给(昇维旭+长鑫),大幅降低海外三星、美光、海力士垄断依赖。
1. 双供应链互补长鑫存储
长鑫存储扎根合肥,主攻通用消费、服务器基础DRAM;昇维旭依托深圳电子、AI产业集群,定向配套华为AI算力与终端,形成南北双国产DRAM产能格局,分散单一厂商断供风险。
2. 先成熟、后先进,规避研发风险
不盲目追逐极先进制程,先依靠28nm成熟工艺快速量产盈利,以成熟产能营收反哺14nm、HBM、新型存储研发,现金流更稳健。
3. 深度绑定AI算力需求
路线全部围绕国内AI产业刚需设计,HBM、高频DDR、低功耗LPDDR全部优先适配昇腾算力芯片,区别于长鑫通用存储路线。
4. 全IDM自主可控闭环
同步布局材料、设备验证、制造、封装,打造完全自主的DRAM产业链,适配国内半导体安全战略。 |
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