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                                                                             EUV光刻机
                                                                SICARRIER    VS    ASML


突破美国封锁！陆版「曼哈顿计划」传打造出EUV光刻机原型
2025年12月18日  

路透引述消息人士报导，中国科学家今年初在深圳打造出一台极紫外光（EUV）光刻机的原型机，将用于生产先进半导体晶片，这些晶片将为人工智慧（AI）、智慧手机，以及现代武器系统提供动力。


这项被形容为「中国曼哈顿计划」的秘密工程项目，凸显中国锐意在AI晶片技术领域与西方匹敌。所谓「曼哈顿计划」，即美国秘密研制原子弹的战时计划。

这台EUV光刻机由荷兰晶片设备制造商ASML的前工程师打造，他们对ASML的EUV光刻技术进行逆向工程。中国的原型机能够成功产生EUV光，但尚未生产出能运作的晶片，政府的目标是在2028年实现晶片生产，但更有可能到2030年才实现量产。

这项计划在中国国家半导体战略框架下运作，并由****监督，华为在其中扮演核心角色，负责协调一个由国家科研院所、供应商和工程团队组成的网络，这个网路涉及数千名工作人员。

EUV光刻机是全球晶片竞赛中最精密的制程之一，利用极紫外光在硅晶圆上蚀刻出超精细电路，从而能够生产出世界上最强大的晶片。此前，这项技术一直被西方供应商垄断，中国的目标是最终使用完全国产的设备生产先进晶片，从而摆脱对美国及其盟友供应链的依赖。




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                                                                            Litholithography Machine




据路透社在12月17日的消息称，国产EUV光刻机原型机已经在深圳的某实验室中完成制造，目前已经能成功产生极紫外光，但原型机目前正处于测试阶段，尚未用于芯片制造。






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